真空建設(shè)鍍膜用靶材,Cu、Cr、Al、Ti、TiAl、TiCr、NiCr等;真空開關(guān)用觸頭、銅合金電工材料;高壓開關(guān)用CuW觸頭材料;鑄造、擠壓銅合金等。
提供各種金屬及合金靶:Sb、Te、Se、CoFe、CoFeB、CuAl、CuGa、Ge、Hf、InSb、Mg、Mo、W、Cr、CoSi、Ag、Au、AlMg、Bi、CoCr靶等。 陶瓷靶材:ITO、TiO2、MgO..
深圳市中正冶金科技有限公司是一家集研究開發(fā)、生產(chǎn)、加工及銷售于一體的高科技公司;通過真空熔煉、無污染熔煉、真空壓力鑄造、鍛造、真空軋制變形及高真空..
可為電子與半導(dǎo)體,平面顯示行業(yè),建筑與汽車玻璃行業(yè),薄膜太陽能電池行業(yè),磁存儲行業(yè),工具行業(yè),裝飾行業(yè)提供高品質(zhì)靶材 高純單質(zhì)金屬濺射靶材(3N-6N)..
冠金利新材料科技*高品質(zhì)靶材主要應(yīng)用領(lǐng)域: 裝飾鍍膜行業(yè)Ti, Cr, Zr, TiAl, Ni, Cu, SS等。 工模具鍍膜行業(yè)TiAl, Ti, Cr, CrAl, CrW, TiSi, TiAlSi, W, WC等..
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